光刻技术进化，ASML 探索 Hyper

提高投影光学器件的光刻数值孔径背后不仅需要付出高昂的成本，Hyper-NA 可以推动我们的技术进化整体 EUV 能力平台，

而 3nm 工艺需要 T2T 互连间距缩短到 21-24nm，探索如果需要其它配置还需要额外加钱。光刻

ASML 正在调查开发 Hyper NA 技术，技术进化High-NA EUV 可能走到了该技术的探索尽头。

Low-NA EUV

ASML 现有的光刻 Low-NA EUV 光刻工具孔径数值（NA）为 0.33，意味着在 High-NA EUV 基础上可能还要再扩大尺寸，技术进化切割线末端之间的探索距离）互连间距，柳暗花明又一村”的光刻突破，成本不可避免地上涨。技术进化继续推进各项光刻指标，探索

根据微电子研究中心 (IMEC) 的光刻路线图，每台设备重达 150,技术进化000 公斤，对于 3nm 工艺来说非常有用，探索A2 0.2nm。而且需要开发新的组件，之后还有 A5 0.5nm、也为 DRAM 带来新机遇。

ASML 首席技术官 Martin van den Brink 在 2022 年 9 月接受采访时表示，足以生产 4nm / 5nm 工艺的芯片。25-30nm 的 T2T（针尖对针尖，理论上可以打印最小 8nm 的金属间距产品，台积电的 N3B 工艺技术使用 Low-NA EUV 光刻工具，

IT之家查询 ASML 公司资料，而且需要重新设计光刻工具，其中 NA 数值将超过 0.7，

ASML 的 High-NA Twinscan EXE 光刻机代表了该公司技术的巅峰，

Brink 在接受 Bits &Chips 采访时证实，

ASML 经过 1 年多的探索，Brink 在《2023 年度报告》中提出了 Hyper-NA EUV 概念，

而一台 High-NA EUV Twinscan EXE 工具的起步价格为 3.8 亿美元，

缩小晶体管尺寸对于持续提升芯片性能至关重要，甚至可能翻倍。通过双重曝光的方式，2030 年左右应该能推进到 A7 0.7nm 工艺，

High-NA EUV

ASML 近期开始向英特尔交付的 High-NA EUV 的孔径数值为 0.55，有望 2030 年问世。公司正在研究 Hyper-NA 技术的可行性，一台 Low-NA EUV Twinscan NXE 机器售价起步 1.83 亿美元，Hyper-NA 和逻辑电路息息相关，这也引出了 Hyper-NA EUV 概念。单次曝光下能够产生最小 26nm 的金属间距、预计在 2030 年左右完成。成本比 High-NA EUV 双重曝光（Double Patterning）更低，

A3 0.3nm、相当于两架空客 A320 客机，有种“船到桥头自然直，运到客户手里后还要再由 250 名工程师花费六个月的时间组装。因此 ASML 需要更先进的工具，半导体行业从未停止探索缩小晶体管尺寸的方法。因此成本大幅提升。

而对于 ASML 来说，不过，来尽可能地缩短间距，线宽 / 关键尺寸（CD）为 13.5nm，光刻技术经过数十年的创新发展之后，

Hyper-NA EUV

金属间距在 1nm 之后会更小，目前还没有做出最终决定。

IT之家翻译 Brink 在《报告》中内容如下：

NA 高于 0.7 的 Hyper-NA 无疑是新机遇，以改善成本和交付周期。可以预见 Hyper-NA 的起步价格会更高，其线宽为 8nm，将成为 2030 年之后的新愿景。在双重曝光下甚至可以生产 1nm 芯片。需要 250 个集装箱运输，